ZhenAn Zr Sputtering Targets Factory
Η Zhenan έχει περισσότερα από 30 χρόνια εμπειρίας στην παραγωγή στόχων με ψεκασμό ζιρκονίου και μπορεί να σας προσφέρει αποκλειστικές υπηρεσίες ένας προς έναν. Εάν ενδιαφέρεστε για το προϊόν, μπορείτε να επικοινωνήσετε μαζί μας για να ενημερωθείτε για τη σχετική τιμή.
Υψηλής καθαρότητας Ζιρκονίου Sputtering Target
Οι στόχοι εκτόξευσης ζιρκονίου (Zr) χρησιμοποιούνται σε εφαρμογές ημιαγωγών, χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD) και φυσικής εναπόθεσης ατμών (PVD) και οπτικών εφαρμογών.
Το εργοστάσιό μας ειδικεύεται στην παραγωγή στόχων εκτόξευσης ζιρκονίου υψηλής καθαρότητας (Zr) υψηλής πυκνότητας και χαμηλότερης τιμής.
Προδιαγραφές στόχων ζιρκονίου υψηλής ποιότητας
|
Ονομασία προϊόντος |
Στόχος ζιρκονίου |
|
Διαθέσιμη καθαρότητα |
99,95%min, όπως ζητάτε |
|
Διαθέσιμο σχήμα |
στρογγυλό, ορθογώνιο, πέλλετ |
|
Πυκνότητα |
6,508/cm3 |
|
Σημείο τήξης |
1852 μοίρες |
|
Τεχνολογία |
Τήξη |
Πλεονεκτήματα των στόχων ζιρκονίου στο εργοστάσιό μας
- Λεία επιφάνεια, χωρίς πόρους, γρατσουνιές και άλλα ελαττώματα
- Τρίψιμο ή περιστροφή άκρων χωρίς σημάδια κοπής
Η υπηρεσία μας
- Επαγγελματίας κατασκευαστής--15 χρόνια εμπειρίας
- Αυστηρός ποιοτικός έλεγχος - Επιθεώρηση SGS
- Υψηλή χωρητικότητα ανεφοδιασμού--3000MT/μήνα
- Άμεση παράδοση - εντός 15 ημερών
Η Zhenan διαθέτει μια επαγγελματική ομάδα μεταφορών για να διασφαλίσει την ασφάλεια του περιβάλλοντος μεταφοράς φορτίου. Για να παραγγείλετε προϊόντα, επικοινωνήστε με:info@zaferroalloy.com.