Περιγραφή

Τεχνικές παράμετροι

Ορισμός της καθαρότητας σε χωνευτήρια μετάλλου τανταλίου

Χωνευτήρια από καθαρό μεταλλικό ταντάλιοείναι δοχεία που κατασκευάζονται εξ ολοκλήρου από εξαιρετικά εξευγενισμένο μέταλλο ταντάλιου, με ελαχιστοποιημένα επίπεδα ακαθαρσιών ώστε να διασφαλίζεται μηδενική μόλυνση στις πιο απαιτητικές βιομηχανικές διεργασίες υψηλής θερμοκρασίας.

"Καθαρό" σε αυτό το πλαίσιο σημαίνει τυπικά περιεκτικότητα σε ταντάλιο Μεγαλύτερη ή ίση με 99,95%, που συχνά φτάνει το 99,98–99,99% για κρίσιμες εφαρμογές. Οι ίχνη ακαθαρσιών όπως Fe, Ni, Cr, O, N και C περιορίζονται σε λίγα μόνο ppm μέσω διεργασιών που περιλαμβάνουν επανατήξη τόξου διπλού κενού (VAR), τήξη δέσμης ηλεκτρονίων (EBM) και εξευγενισμό ζώνης. Αυτός ο βαθμόςΜεταλλικό ΤαντάλιοΗ καθαρότητα εγγυάται ότι το ίδιο το χωνευτήριο δεν αλλοιώνει τη χημεία ή τη μικροδομή του επεξεργασμένου υλικού.

Ακαθαρσία	Μέγιστο επίπεδο (ppm) – Βαθμός 99,99%.	Εφέ εάν Υπέρβαση
Fe	Μικρότερο ή ίσο με 5	Σχηματισμός εγκλεισμού, αλλοιωμένη αντοχή κράματος
Ni	Μικρότερο ή ίσο με 3	Μειωμένη αντοχή στη διάβρωση του τήγματος
O	Μικρότερο ή ίσο με 5	Ευθραυστότητα σε υψηλή θερμοκρασία
C	Μικρότερο ή ίσο με 10	Ανεπιθύμητη καθίζηση καρβιδίου

Βιομηχανικοί ρόλοι χωνευτηρίων καθαρού μετάλλου τανταλίου

Ημιαγωγός Crystal Growth – Περιορισμός τήγματος υψηλής καθαρότητας για βολίδες SiC ή GaN, όπου ακόμη και ρύποι σε επίπεδο ppb καταστρέφουν την ποιότητα του πλακιδίου.

Χειρισμός πυρηνικών υλικών – Ασφαλής τήξη και χύτευση κραμάτων ακτινιδών με ελάχιστες ακαθαρσίες που απορροφούν νετρόνια.

Εξόρυξη σπάνιων γαιών – Ηλεκτρολυτική ή μεταλλοθερμική αναγωγή σε τήγματα φθορίου/χλωρίου, διατηρώντας τη μαγνητική απόδοση των Nd, Dy, Tb.

Τα χωνευτήρια διατηρούν τη δομική σταθερότητα πάνω από 2400 βαθμούς σε αδρανείς ατμόσφαιρες, με αμελητέα πίεση ατμών και εξαιρετική αντοχή σε ορυκτά οξέα και λιωμένα οξείδια.

Πλεονεκτήματα απόδοσης των χωνευτηρίων καθαρού μετάλλου τανταλίου

Η εξαιρετικά καθαρή εσωτερική τους επιφάνεια εξαλείφει τις θέσεις πυρήνων για ψευδείς φάσεις, επιτρέποντας προβλέψιμη στερεοποίηση. Η εξαιρετική αντίσταση ερπυσμού (λόγω λεπτών, ανακρυσταλλωμένων κόκκων) επιτρέπει φορτία ~10 MPa στους 2000 βαθμούς. Τα λεία φινιρίσματα (Ra Λιγότερο ή ίσο με 0,4 μm) διευκολύνουν τον εύκολο καθαρισμό και αποτρέπουν τη συγκόλληση τήγματος, καθιστώντας τα ιδανικά για πλήρως αυτοματοποιημένες γραμμές παραγωγής υψηλής απόδοσης σε εργοστάσια κραμάτων αεροδιαστημικής και ηλεκτρονικών υλικών.

Customized 99.95% Pure Melting Tantalum crucible from ZhenAn

ποιος μας επιλέγει;

Τα πλεονεκτήματα των προϊόντων μας
Υψηλής καθαρότητας
Επίπεδα καθαρότητας 99,995%-99,997%, με εξαιρετικά χαμηλές ακαθαρσίες όπως Pd και Cd.
Ανώτερη ποιότητα καλωδίων
Τα καλώδια ξετυλίγονται ομοιόμορφα σε συνεχή μήκη, εξασφαλίζοντας απρόσκοπτη λειτουργία.
Λεία επιφάνεια χωρίς υπολείμματα λαδιού.
Δεν υπάρχουν προβλήματα τροφοδοσίας καλωδίων
Χωρίς ελαττώματα όπως σωματίδια, μπερδεμένα καλώδια, κόμβους, κάμψεις, σπασίματα, οξείδωση, αστοχίες τόξου ψεκασμού ή βουλωμένα ακροφύσια.
Δωρεάν εκθέσεις δοκιμών
Παρέχουμε συμπληρωματικές αναφορές δοκιμών σχετικά με το πάχος του στρώματος ψεκασμού, το πορώδες, την αντοχή συγκόλλησης και τις εξετάσεις επίστρωσης για πυκνωτές και θερμικά ψεκαζόμενες επικαλύψεις ψευδαργύρου.

μία- λύση

επαγγελματική ομάδα

υψηλής ποιότητας

Δημοφιλείς Ετικέτες: χωνευτήρια καθαρού μετάλλου τανταλίου, Κίνα κατασκευαστές χωνευτηρίων καθαρού μετάλλου τανταλίου, προμηθευτές, εργοστάσιο

Χωνευτήρια από καθαρό μεταλλικό ταντάλιο

Ορισμός της καθαρότητας σε χωνευτήρια μετάλλου τανταλίου

​

Βιομηχανικοί ρόλοι χωνευτηρίων καθαρού μετάλλου τανταλίου

​

Πλεονεκτήματα απόδοσης των χωνευτηρίων καθαρού μετάλλου τανταλίου​

Πλεονεκτήματα απόδοσης των χωνευτηρίων καθαρού μετάλλου τανταλίου