Περιγραφή

Τεχνικές παράμετροι

Πρότυπα καθαρότητας για μεταλλικά χωνευτήρια τανταλίου υψηλής καθαρότητας

Η "Υψηλή καθαρότητα" σε αυτό το πλαίσιο ξεπερνά τους τυπικούς εμπορικούς βαθμούς, στοχεύοντας τα επίπεδα ακαθαρσίας που μετρώνται σε μονοψήφια ppm για Fe, Ni, O και C. Επιτυγχάνεται μέσω πολλαπλών σταδίων διύλισης-συμπεριλαμβανομένου του καθαρισμού ζώνης και της επαγωγικής τήξης σε ψυχρό χωνευτήριο-Χωνευτήρια μετάλλων τανταλίουβεβαιωθείτε ότι το δοχείο δεν συνεισφέρει σχεδόν κανένα ξένο στοιχείο στο τήγμα. Αυτό είναι απαραίτητο για την ανάπτυξη κρυστάλλων ημιαγωγών, τη μείωση μετάλλων σπάνιων γαιών και το χειρισμό πυρηνικών υλικών.

Ακαθαρσία	Τυπικό μέγιστο (ppm) – Βαθμός 99,99%.	Εφέ εάν Υπέρβαση
Fe	Μικρότερο ή ίσο με 5	Αλλάζει τη χημεία του κράματος, προκαλεί εγκλείσματα
Ni	Μικρότερο ή ίσο με 3	Μειώνει την αντοχή στη διάβρωση
O	Μικρότερο ή ίσο με 5	Προκαλεί ευθραυστότητα στη θερμοκρασία
C	Μικρότερο ή ίσο με 10	Σχηματίζει σκληρά καρβίδια, εξασθενεί τη δομή

Βιομηχανικοί ρόλοι μεταλλικών χωνευτηρίων τανταλίου υψηλής καθαρότητας

Ημιαγωγός Crystal Growth – Περιορισμός εξαιρετικά καθαρών τήγματος για SiC, GaN και ζαφείρι. εξαλείφει τη ρύπανση.

Ηλεκτρόλυση μετάλλων σπανίων γαιών – Τήγματα φθορίου/χλωρίου για Nd, Dy, Tb. διατηρεί τα μαγνητικά χαρακτηριστικά.

Κατασκευή πυρηνικών καυσίμων – Τήξη κράματος ακτινιδών με ελάχιστες ακαθαρσίες που απορροφούν νετρόνια.

Πλεονεκτήματα μεταλλικών χωνευτηρίων τανταλίου υψηλής καθαρότητας

ΑυτοίΧωνευτήρια μετάλλων τανταλίουprovide the highest℃of melt cleanliness, enabling defect‑free single crystals and high‑value metal production. Ultra‑low vapor pressure at >Οι 2500 μοίρες εξασφαλίζουν σταθερότητα διαστάσεων σε μεγάλες εκστρατείες. Η λεπτή, ανακρυσταλλωμένη δομή κόκκων ενισχύει την αντίσταση ερπυσμού, επιτρέποντας τη χρήση υπό μηχανικά φορτία στους 2000 βαθμούς. Η λεία επιφάνειά τους (Ra μικρότερη ή ίση με 0,4 μm) ελαχιστοποιεί τη δημιουργία πυρήνων, διευκολύνοντας τον καθαρισμό και διασφαλίζοντας τη συνοχή από παρτίδα σε παρτίδα σε αυτοματοποιημένα περιβάλλοντα παραγωγής υψηλής απόδοσης.

Customized 99.95% Pure Melting Tantalum crucible from ZhenAn

ποιος μας επιλέγει;

Τα πλεονεκτήματα των προϊόντων μας
Υψηλής καθαρότητας
Επίπεδα καθαρότητας 99,995%-99,997%, με εξαιρετικά χαμηλές ακαθαρσίες όπως Pd και Cd.
Ανώτερη ποιότητα καλωδίων
Τα καλώδια ξετυλίγονται ομοιόμορφα σε συνεχή μήκη, εξασφαλίζοντας απρόσκοπτη λειτουργία.
Λεία επιφάνεια χωρίς υπολείμματα λαδιού.
Δεν υπάρχουν προβλήματα τροφοδοσίας καλωδίων
Χωρίς ελαττώματα όπως σωματίδια, μπερδεμένα καλώδια, κόμβους, κάμψεις, σπασίματα, οξείδωση, αστοχίες τόξου ψεκασμού ή βουλωμένα ακροφύσια.
Δωρεάν εκθέσεις δοκιμών
Παρέχουμε συμπληρωματικές αναφορές δοκιμών σχετικά με το πάχος του στρώματος ψεκασμού, το πορώδες, την αντοχή συγκόλλησης και τις εξετάσεις επίστρωσης για πυκνωτές και θερμικά ψεκαζόμενες επικαλύψεις ψευδαργύρου.

μία- λύση

επαγγελματική ομάδα

υψηλής ποιότητας

Δημοφιλείς Ετικέτες: χωνευτήρια μετάλλων τανταλίου υψηλής καθαρότητας, Κίνα κατασκευαστές μεταλλικών χωνευτηρίων τανταλίου υψηλής καθαρότητας, προμηθευτές, εργοστάσιο

Χωνευτήρια μετάλλων τανταλίου υψηλής καθαρότητας

Πρότυπα καθαρότητας για μεταλλικά χωνευτήρια τανταλίου υψηλής καθαρότητας

Βιομηχανικοί ρόλοι μεταλλικών χωνευτηρίων τανταλίου υψηλής καθαρότητας

​

Πλεονεκτήματα μεταλλικών χωνευτηρίων τανταλίου υψηλής καθαρότητας​

Πλεονεκτήματα μεταλλικών χωνευτηρίων τανταλίου υψηλής καθαρότητας